《模拟电路版图的艺术 中文第二版》（美）艾伦 · 黑斯廷斯

《模拟电路版图的艺术 中文第二版》（美）艾伦 · 黑斯廷斯


内容介绍
本书以实用和权威性的观点论述了模拟集成电路版图设计中所涉及的各种问题及目前的研究成果。书中介绍了半导体器件物理与工艺、失效机理等内容；基于模拟集成电路设计所采用的3种基本工艺：标准双极工艺、CMOS硅栅工艺和BiCMOS工艺，重点探讨了无源器件的设计与匹配性问题，二极管设计，双极型晶体管和场效应晶体管的设计与应用，以及某些专门领域的内容，包括器件合并、保护环、焊盘制作、单层连接、ESD结构等；*后介绍了有关芯片版图的布局布线知识。......Alan Hastings， 美国TI（德州仪器）教授级工程师，具有渊博的集成电路版图设计知识和丰富的实践经验。Alan Hastings， 美国TI（德州仪器）教授级工程师，具有渊博的集成电路版图设计知识和丰富的实践经验。
Alan Hastings， 美国TI（德州仪器）教授级工程师，具有渊博的集成电路版图设计知识和丰富的实践经验。


目录
目 录
Chapter 1 Device Physics 器件物理 1
1.1 Semiconductors 半导体 1
1.1.1 Generation and Recombination 产生与复合 4
1.1.2 Extrinsic Semiconductors 非本征（杂质）半导体 6
1.1.3 Diffusion and Drift 扩散和漂移 9
1.2 PN Junctions PN结 11
1.2.1 Depletion Regions 耗尽区 11
1.2.2 PN Diodes PN结二极管 13
1.2.3 Schottky Diodes 肖特基二极管 16
1.2.4 Zener Diodes 齐纳二极管 18
1.2.5 Ohmic Contacts 欧姆接触 19
1.3 Bipolar Junction Transistors 双极型晶体管 21
1.3.1 Beta β值 23
1.3.2 I-V Characteristics I-V特性 24
1.4 MOS Transistors MOS晶体管 25
1.4.1 Threshold Voltage 阈值电压 27
1.4.2 I-V Characteristics I-V特性 &he
......


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